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厚聲貼片電阻的厚膜工藝與薄膜工藝有何區(qū)別?

作者: 深圳市昂洋科技有限公司發(fā)表時間:2025-08-14 14:40:59瀏覽量:264

厚聲貼片電阻的厚膜工藝與薄膜工藝在膜層厚度、制造工藝、性能表現(xiàn)、應用場景及成本結構上存在顯著差異,具體分析如下: 一、膜層厚度:物理維度的核心差異 厚膜工藝:膜層厚度通常為5-50微米(...
文本標簽:

厚聲貼片電阻的厚膜工藝與薄膜工藝在膜層厚度、制造工藝、性能表現(xiàn)、應用場景及成本結構上存在顯著差異,具體分析如下:



一、膜層厚度:物理維度的核心差異


厚膜工藝:膜層厚度通常為5-50微米(部分案例達100微米),采用絲網印刷技術將電阻漿料(含金屬氧化物、玻璃粘結劑等)涂覆于基板,經高溫燒結形成厚膜層。


薄膜工藝:膜層厚度僅0.1-10微米(多數低于1微米),通過真空蒸發(fā)、磁控濺射等物理氣相沉積技術,在基板上形成超薄金屬薄膜(如鎳鉻合金),再經光刻蝕刻工藝定義電阻圖形。


技術本質:厚膜工藝依賴“印刷+燒結”的化學固化過程,薄膜工藝則通過“沉積+蝕刻”的物理加工實現(xiàn)納米級精度控制。


二、制造工藝:流程與設備的分野


厚膜工藝流程


絲網印刷:將電阻漿料通過絲網網版轉移至陶瓷或金屬基板。


高溫燒結:在850-900℃下使玻璃粘結劑熔化,固定金屬氧化物顆粒,形成導電膜層。


端頭處理:印刷銀漿作為電極,經二次燒結實現(xiàn)電氣連接。


優(yōu)勢:支持批量印刷,適合大規(guī)模標準化生產,設備成本低。


薄膜工藝流程


真空沉積:在真空腔室內,通過高能離子轟擊靶材(如鎳鉻合金),使原子濺射并沉積于基板。


光刻蝕刻:涂覆光刻膠、曝光顯影后,用等離子體蝕刻未保護區(qū)域的薄膜,形成電阻圖形。


調阻工藝:通過激光修剪薄膜厚度或寬度,精確調整阻值。


優(yōu)勢:實現(xiàn)納米級精度控制,但設備復雜度高,生產周期長。


案例對比:厚膜工藝可一次性印刷多個電阻,而薄膜工藝需逐層沉積與蝕刻,單片生產時間相差數倍。


三、應用場景:需求驅動的技術選擇


厚膜工藝的適用性


工業(yè)控制:如PLC、變頻器中,需長期穩(wěn)定運行且對成本敏感的電路。


汽車電子:發(fā)動機控制單元(ECU)中,耐受高溫與振動環(huán)境。


消費電子:電視、空調等家電的電源電路,平衡性能與成本。


薄膜工藝的適用性


高頻電路:5G濾波器、射頻放大器中,低寄生效應與高截止頻率是關鍵。


精密測量:萬用表、示波器等儀器中,需確保阻值長期穩(wěn)定性。


醫(yī)療設備:如心電圖機、超聲探頭中,低噪聲與高精度直接影響診斷結果。

2025-08-14 264人瀏覽
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